Отечественная микроэлектроника получит важный инструмент для контроля качества микросхем. В России началась разработка первого промышленного электронного микроскопа CD-SEM, который должен заменить недоступные после санкций японские установки Hitachi.

━━━━━━━━━━━━━━
Масштабный проект до 2030 года
Разработкой займётся Зеленоградский нанотехнологический центр. На создание комплекса выделили более 2,37 млрд рублей, а завершить работы планируют к середине 2030 года.
Новый микроскоп предназначен для проверки полупроводниковых пластин диаметром 100, 150 и 200 мм. Первый опытный образец будет работать с наиболее распространёнными сегодня 200-миллиметровыми пластинами.
━━━━━━━━━━━━━━
Контроль самых важных параметров
Установка сможет измерять ширину проводников, размеры контактных отверстий, расстояния между элементами схем и шероховатость линий.
Именно такие параметры напрямую влияют на качество микросхем, стабильность производства и количество годных кристаллов после изготовления.
━━━━━━━━━━━━━━
Максимум российских технологий
Практически все основные узлы нового комплекса должны быть отечественной разработки. Это касается электронной пушки, электронно-оптической колонны, вакуумной системы, механизма загрузки пластин, программного обеспечения и управляющей электроники.
Использование зарубежных компонентов допускается только в исключительных случаях после согласования с заказчиком.
━━━━━━━━━━━━━━
Основа для развития микроэлектроники
У разработчиков уже есть опыт создания подобного оборудования. Ранее центр представил российский литограф с разрешением 350 нм и установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм, которая сейчас проходит испытания.
Создание собственного CD-SEM позволит снизить зависимость от импортного оборудования и укрепить технологическую базу российской микроэлектроники.
━━━━━━━━━━━━━━
Как считаете, сможет ли Россия полностью заменить импортное оборудование для производства чипов собственными разработками в ближайшие годы?

━━━━━━━━━━━━━━
Разработкой займётся Зеленоградский нанотехнологический центр. На создание комплекса выделили более 2,37 млрд рублей, а завершить работы планируют к середине 2030 года.
Новый микроскоп предназначен для проверки полупроводниковых пластин диаметром 100, 150 и 200 мм. Первый опытный образец будет работать с наиболее распространёнными сегодня 200-миллиметровыми пластинами.
━━━━━━━━━━━━━━
Установка сможет измерять ширину проводников, размеры контактных отверстий, расстояния между элементами схем и шероховатость линий.
Именно такие параметры напрямую влияют на качество микросхем, стабильность производства и количество годных кристаллов после изготовления.
━━━━━━━━━━━━━━
Практически все основные узлы нового комплекса должны быть отечественной разработки. Это касается электронной пушки, электронно-оптической колонны, вакуумной системы, механизма загрузки пластин, программного обеспечения и управляющей электроники.
Использование зарубежных компонентов допускается только в исключительных случаях после согласования с заказчиком.
━━━━━━━━━━━━━━
У разработчиков уже есть опыт создания подобного оборудования. Ранее центр представил российский литограф с разрешением 350 нм и установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм, которая сейчас проходит испытания.
Создание собственного CD-SEM позволит снизить зависимость от импортного оборудования и укрепить технологическую базу российской микроэлектроники.
━━━━━━━━━━━━━━